Qué es la deposición al vacío

El término deposición al vacío escribe un grupo de procesos que tienen la finalidad de deponer partículas individuales, específicamente átomos y moléculas, de una superficie. Los procesos se conducen en un vacío para evitar cualquier interferencia o reacción con partículas de gas tales como el oxígeno, el cual puede ser altamente reactivo. Una muy delgada capa de una sustancia aplicada a una superficie se llama película, y una capa más gruesa se llama cubierta. La deposición al vacío puede tener distintos propósitos, tal como depositar capas conductoras en superficies o el proteger metales de la corrosión. Este proceso también se utiliza con frecuencia en distintas partes automotrices para diversos propósitos como el de prevenir la corrosión y la oxidación.

El método más común utilizado para la deposición al vacío involucra la utilización de vapor. A veces, la sustancia que se va a depositar en la superficie se vaporiza; posteriormente se condensa como una capa en la superficie. En otros casos, la sustancia o las sustancias vaporizadas reaccionan con la superficie para formar la capa o la cubierta deseada. En algunos casos, otros factores tales como la temperatura o la densidad del vapor deben manipularse para obtener los resultados deseados. Estos factores pueden influenciar el espesor y la cohesión de la capa, por lo tanto es esencial que sean regulados correctamente.

El vacío es una parte esencial de la deposición al vacío; tiene muchos roles importantes. La presencia del vacío resulta en una densidad baja de partículas indeseables, y significa que las partículas que se pretende cubran la superficie no reaccionarán o colisionarán con ninguna partícula contaminante.

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Categorias: Química
Ultima modificación: 04/16/2013